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- その他No.11292
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逃避
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関係者 モデル 加藤 歩
共同作者 - 撮影場所 渋谷 使用機材 Canon6Dmark2
作品説明 コロナの影響で未来が見えない、逃げたいを表現しました。
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逃避
関係者 | モデル 加藤 歩 |
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共同作者 | - |
撮影場所 | 渋谷 |
使用機材 | Canon6Dmark2 |
作品説明 | コロナの影響で未来が見えない、逃げたいを表現しました。 |